電化學拋光設(shè)備,電解化學拋光

電化學拋光設(shè)備的設(shè)計及制造主要由拋光工藝的要求而定，主要有三種形式。大多數(shù)情況下采用靜態(tài)的電化學拋光設(shè)備，這種設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，施工方便，造價低廉，一次性能拋光大面積的工件。由于拋光工件特殊需要而設(shè)計的動態(tài)電化學拋光設(shè)備，是根據(jù)不同的工藝條件要求采用不同形式的設(shè)備，一般是考慮拋光精密零件對尺寸及拋光質(zhì)量的嚴格要求而設(shè)計。另外一種是電化學拋光和其他拋光方法組合而設(shè)計的復合型電化學拋光設(shè)備。

電化學拋光設(shè)備,電解化學拋光

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